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离心机的内密封件技术应用介绍

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离心机的内密封件技术应用介绍

  • 分类:新闻资讯
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  • 来源:
  • 发布时间:2020-09-13
  • 访问量:973

【概要描述】上篇文章中英泰仪器为大家介绍了用于可自由处理的离心机的内密封件,今天我们再来为大家介绍下离心机的内密封件技术以及应用。

  技术领域

  本发明一般涉及流体分离离心机,这些离心机构造用来从流体中分离颗粒物质,谊流体通过谊离心机进行循环.尤其特剐地。本发明涉及一种带有内密封件的可自由处理的离心机转予.为了在预期的收集区域帮助留住所收集的烟垢及0.01-1.O微米尺寸的极细颗粒设置了内密封件。

  背景技术

  虽然相信本发明对于可自由处理的离心机转干具有广泛的适用性,但还是在两种特定的离心机转子结构范围内进行描述.所选择的一种结构是Tennessee Nashville的Fleetguand,Inc.的现有产品,以零件号CS4lOOO提供.另一种结构是分流离心机。

    该现有的CS41000离心机转子构造成具有与内圈相配的底板,该内圈位于底部转子罩的内部.在谊备零件之间的相配的互相配合产生了圃周的线对线接触.应用这种结构,CS41000产品对于收集尺寸范围为3—80微米的灰尘显示出色的性能.但是,已获知C$41000离心机转子的性能用于收集尺寸范围O.01-1.O微米颗粒的烟垢的效率是不高的.性能上的这个变化终归是因为压力梯度及底板与转子罩之间的流体泄漏遗成的.

    利用计算的流体动力学(cFD)模拟软件对各种离心机结构进行离心机的流动及分离效率分析指出了:横跨该底板存在着明显的压力梯度。可以断定:这个明显的压力梯度依次又引致转子罩与底板之问在它们的圆周界面(即接触)位置处的泄漏流动。考虑到的是:该明显的压力梯度引起了底板上的某些挠曲,这是造成经过这个界面位置的泄涌流动的原因.

离心机的内密封件技术应用介绍

【概要描述】上篇文章中英泰仪器为大家介绍了用于可自由处理的离心机的内密封件,今天我们再来为大家介绍下离心机的内密封件技术以及应用。

  技术领域

  本发明一般涉及流体分离离心机,这些离心机构造用来从流体中分离颗粒物质,谊流体通过谊离心机进行循环.尤其特剐地。本发明涉及一种带有内密封件的可自由处理的离心机转予.为了在预期的收集区域帮助留住所收集的烟垢及0.01-1.O微米尺寸的极细颗粒设置了内密封件。

  背景技术

  虽然相信本发明对于可自由处理的离心机转干具有广泛的适用性,但还是在两种特定的离心机转子结构范围内进行描述.所选择的一种结构是Tennessee Nashville的Fleetguand,Inc.的现有产品,以零件号CS4lOOO提供.另一种结构是分流离心机。

    该现有的CS41000离心机转子构造成具有与内圈相配的底板,该内圈位于底部转子罩的内部.在谊备零件之间的相配的互相配合产生了圃周的线对线接触.应用这种结构,CS41000产品对于收集尺寸范围为3—80微米的灰尘显示出色的性能.但是,已获知C$41000离心机转子的性能用于收集尺寸范围O.01-1.O微米颗粒的烟垢的效率是不高的.性能上的这个变化终归是因为压力梯度及底板与转子罩之间的流体泄漏遗成的.

    利用计算的流体动力学(cFD)模拟软件对各种离心机结构进行离心机的流动及分离效率分析指出了:横跨该底板存在着明显的压力梯度。可以断定:这个明显的压力梯度依次又引致转子罩与底板之问在它们的圆周界面(即接触)位置处的泄漏流动。考虑到的是:该明显的压力梯度引起了底板上的某些挠曲,这是造成经过这个界面位置的泄涌流动的原因.

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上篇文章中英泰仪器为大家介绍了用于可自由处理的离心机的内密封件,今天我们再来为大家介绍下离心机的内密封件技术以及应用。

  技术领域

  本发明一般涉及流体分离离心机,这些离心机构造用来从流体中分离颗粒物质,谊流体通过谊离心机进行循环.尤其特剐地。本发明涉及一种带有内密封件的可自由处理的离心机转予.为了在预期的收集区域帮助留住所收集的烟垢及0.01-1.O微米尺寸的极细颗粒设置了内密封件。

  背景技术

  虽然相信本发明对于可自由处理的离心机转干具有广泛的适用性,但还是在两种特定的离心机转子结构范围内进行描述.所选择的一种结构是Tennessee Nashville的Fleetguand,Inc.的现有产品,以零件号CS4lOOO提供.另一种结构是分流离心机。

    该现有的CS41000离心机转子构造成具有与内圈相配的底板,该内圈位于底部转子罩的内部.在谊备零件之间的相配的互相配合产生了圃周的线对线接触.应用这种结构,CS41000产品对于收集尺寸范围为3—80微米的灰尘显示出色的性能.但是,已获知C$41000离心机转子的性能用于收集尺寸范围O.01-1.O微米颗粒的烟垢的效率是不高的.性能上的这个变化终归是因为压力梯度及底板与转子罩之间的流体泄漏遗成的.

    利用计算的流体动力学(cFD)模拟软件对各种离心机结构进行离心机的流动及分离效率分析指出了:横跨该底板存在着明显的压力梯度。可以断定:这个明显的压力梯度依次又引致转子罩与底板之问在它们的圆周界面(即接触)位置处的泄漏流动。考虑到的是:该明显的压力梯度引起了底板上的某些挠曲,这是造成经过这个界面位置的泄涌流动的原因.

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